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超高分辨率面分析
對(duì)碳膜上Sn球放大3萬倍進(jìn)行面分析。即使是SE圖像（左側(cè)）上直徑只有50nm左右的Sn顆粒，在X射線圖像（右側(cè)）上也是清晰可見。
最尖端技術(shù)實(shí)現(xiàn)
■ 無與倫比卓越的空間分辨率
EPMA可達(dá)到的最高級(jí)別的二次電子圖像分辨率3nm（加速電壓30kV）分析條件下No.1的二次電子分辨率。
（加速電壓10kV時(shí)20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）
■ 二次電子圖像最高分辨率3nm
碳噴鍍金顆粒的觀察實(shí)例。實(shí)現(xiàn)最高分辨率
3nm（@30kV）。相對(duì)較高的束流也可將電子束壓
細(xì)聚焦，更加容易的獲得高分辨率的SEM圖像。
■ 大束流超高靈敏度分析
實(shí)現(xiàn)3.0μA（加速電壓30kV）的最大束流。
全束流范圍無需更換物鏡光闌。
■ 最多可同時(shí)搭載5通道高性能4英寸X射線譜儀
無人可及的52.5°X射線取出角。
4英寸羅蘭圓半徑兼顧高靈敏度與高分辨率。
最多可同時(shí)搭載5通道相同規(guī)格的X射線譜儀。
■ 全部分析操作簡單易懂
全部操作僅靠一個(gè)鼠標(biāo)就可進(jìn)行的先進(jìn)可操作性。
追求「易懂」的人性化用戶界面。
搭載導(dǎo)航模式，自動(dòng)指引直至生成報(bào)告。
超高靈敏度面分析
使用1μA束流對(duì)不銹鋼進(jìn)行5000倍的面分析。精確地捕捉到了Cr含量輕微不同形成的不同的相（左側(cè)），同時(shí)也成功地將含量不足0.1%的Mn分布呈現(xiàn)在我們眼前（右側(cè)）。
